机译:二硫化钨($ WS_ {2-x} $)薄膜的反应磁控溅射:沉积参数对织构,微观结构和化学计量的影响
机译:二硫化钨(WS_(2-x))薄膜的反应磁控溅射:沉积参数对织构,微观结构和化学计量的影响
机译:高磁化WS_(2-x)薄膜的反应磁控溅射:Ne〜+,Ar〜+和Xe〜+离子轰击对薄膜生长的影响
机译:(111)织构TiN膜的直流反应磁控溅射沉积-氮气流量和放电功率对织构形成的影响
机译:沉积参数对ZnO:Al膜在线磁控溅射制备的表面纹理的影响
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:磁控溅射在Y-TZP上沉积SiOx薄膜:等离子体参数对Y-TZP与树脂假牙粘接性能的影响